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當臺式電鏡遇見肖特基場發射電子源

 更新時間:2019-03-08 點擊量:2304

在 2018 年之前,為何沒有看到使用肖特基場發射電子源(FEG)的臺式掃描電子顯微鏡(SEM)呢?為何在臺式掃描電鏡(SEM)中使用場發射電子源(FEG)是十分的呢?

 

當臺式掃描電鏡遇見場發射電子源

 

臺式掃描電鏡(SEM)是一個相對年輕且發展迅速的產品。其實許多應用領域并不需要使用低于 1 nm 的超高分辨率掃描電鏡(SEM),10 nm 的分辨率是綽綽有余的。然而,由于材料特征點尺寸越來越小和觀測需求的增加,臺式掃描電鏡(SEM)用戶有時希望設備能夠具有更好的分辨率,并且保持測樣效率不變、操作依然簡便。

 

飛納臺式場發射掃描電鏡的誕生

 

在設計新的掃描電鏡(SEM)時會出現諸多挑戰。通常,為了獲得更好的性能,新設備的規格需要更高的要求。另一個挑戰是新系統的出現,不會影響到飛納臺式掃描電鏡(SEM)的操作簡便性??梢宰寷]有掃描電鏡(SEM)操作經驗的實驗室管理員能夠在短時間內熟練操作電鏡。那么,當飛納電鏡從 CeB6 電子源升級到 FEG 電子源時,將面臨的挑戰是什么?

 

首先,需要分析掃描電鏡(SEM)電子源之間的差異。

 

掃描電鏡電子源

 

電子源是掃描電鏡(SEM)中的主要組件之一。區分三種不同類型的電子源:鎢(W),六硼化鈰(CeB6)和場發射(FEG)電子源。僅基于燈絲亮度和燈絲尺寸等屬性,場發射(FEG)電子源是生成高分辨率圖像的*電子源。

 

臺式掃描電鏡中的場發射電子源

 

那么為什么在 2018 年之前,還沒有在飛納臺式掃描電鏡中看到臺式場發射電鏡?如上所述,主要基于機械設計所面臨的挑戰:

 

· 場發射電子源(FEG)需要高真空的操作系統。通常,場發射電子源需要在 10-9 或 10-10 mbar 的真空環境中工作。遺憾的是,即使采用了更真空泵系統,仍不足以達到如此高的真空度。水分子容易粘附在掃描電鏡的側壁上,無法被抽送出去。去除這些水分子的方法是加熱鏡筒。對于臺式掃描電鏡(SEM)而言,這是一個非常復雜的過程,由于鏡筒尺寸很小,鏡頭或探測器會出現過熱的問題。

 

· 需要提高系統穩定性以適應更高的放大倍數和分辨率。這增加了對電子和機械系統穩定性的要求。

 

用于控制場發射燈絲的電子元器件不同于鎢(W)燈絲或 CeB6 燈絲,并且系統的機械靈敏度仍然需要非常穩定。

 

荷蘭飛納公司克服了所有這些設計挑戰,于 2018 年推出臺式場發射掃描電鏡。

 

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